Beskrivning av vakuumrör med hög temperatur

Xinkyo SK2V series high vacuum tube furnace can reach high vacuum of -4Pa and temperature of 1700℃. Its features of PID control, multi-segment program editing and precise temperature control make it one of the key equipment for ceramics, semiconductors, new energy and material synthesis.

Sepcifikationer av SK2V högvakuumrörsugn

Modell	SK2V -17 tp/18tp
Produktnamn	Ugn med hög vakuumrör
Konstruktionstemperatur	1700 grader, 1800 grader
Kontinuerlig med temperatur	Rt ~ 1700 grad
Maxvakuum	6*10^-4 pa (vid kallt tillstånd och tom kammare)
Uppvärmningszon	OD40/60/80/100/120mm*L205/350/440mm eller någon annan längd anpassad
Gaskontroll	SUS304 Tätningsflänsar med rörbeslag ingår för gas in och ut, tillsammans med relevanta omkopplare
Pumptyp	Diffusionspump+stödpump eller molekylpump+stödpump
Mätområde	10^-5 pa ~ 10^5pa
Eldkammare	1700 ~ 1900 grader Al2O3 keramisk fiberpliktningskort
Värmare	1700 ~ 1850 graders överlägsna toppklass MOSI2 -värmare
Lastrum	1800 grader AL2O3 -rör
Uppvärmning	Mindre än eller lika med 10 grader /minut
Ugnsstruktur	Dubbelskiktshus med forced luftkylning och pulverbelagd bearbetning för åldrande motstånd
Säkerhet	Över uppvärmningsskydd, övre temperaturgränsskydd, trasig termalkoppellarm, temperaturförspänning, vatten över temperaturlarm, nödstopp
Vattenkylare	Valfritt (diffusionspump kräver vattenkylaren konfigurerad)
Temperaturkontroll	PID- och autoinställningsfunktion, 10Groups x50Segments Temperaturtid Programmerbar, kurva och datablad Visiual display, data kan exporteras till U -disken och Visa sedan på PC för att visa/analysera support
Bekvämlighet	Universella hjul med bromsfunktion ingår
Garanti	12 månader garanti med livstidsstöd (exklusive värmare, o ring)
Certifiering	CE, ISO 9001. SGS, National High Tech Enterprise Certified
Varsel	Innan förfrågan, vänligen dela den nödvändiga verkliga arbetstemperaturen+värmezonstorlek+vakuum för material som ska värmebehandlas+spänning/fas, dessa faktorer är direkt relaterade till pris och prisvarierar .

Applicering av vakuumrör med hög temperatur

Hög temperatursintring och förtätning av avancerade keramiska material

Example:Silicon carbide (SiC) ceramics: Pressureless sintering of SiC requires vacuum assistance at 1600~1700℃(with subsequent argon gas flow), and Al₂O₃-Y₂O₃ sintering aid forms a liquid phase to promote densification, which is used in semiconductor wafer fixtures and burner nozzles.
Zirconia (Zro₂) härdad keramik:

Förtrevande vid 1500 ~ 1600 grader i vakuum tar bort organiskt material, förbättrar ljusöverföring och termisk chockmotstånd och är lämplig för tandrester och bränslecellelektrolyter .
Transparent keramik (som YAG, Alon):

1650 ~ 1700 graders högvakuumavgasning eliminerar spridningsporer och uppnår optisk klassöverföring för laser/missilfönsterapplikationer .

Polarisering av hög temperatur av piezoelektrisk keramik (PZT):

1500 graders vakuum -glödgning optimerar korngränsstrukturen och förbättrar den piezoelektriska koefficienten d₃₃ .

2. nyckelprocesser ihalvledare och fotovoltaiska industrier

Galliumoxid (ga₂o₃) Annealing:
1600 graders vakuum -glödgning eliminerar syre -lediga platser, reglerar bärarkoncentration och ökar Schottky Diod -nedbrytningsspänning .
Aluminiumnitrid (ALN) Enkel kristallvärmebehandling:

1500 ~ 1550 graders vakuumlyftning minskar dislokationstätheten och förbättrar UV -LED -lysande effektivitet

3. avancerad bearbetning avpulvermaterial

Sfäriskt aluminiumoxidpulver (-al₂o₃):

1650 graders vakuumsmältspraygranulering för att erhålla 3D -tryck keramiskt pulver med utmärkt fluiditet (partikelstorlek d 50=15 ~ 45μm) .

Bornitrid (HBN) pulverkristallisation:

1700 graders vakuumbehandling förbättrar kristalliniteten hos hexagonal bornitrid och förbättrar prestandan för värmeledande ledande